Les méthodes traditionnelles de nettoyage industriel comprennent principalement l'eau à haute pression, les réactifs chimiques, les ondes ultrasonores et le polissage mécanique. Cependant, ces méthodes de nettoyage présentent des problèmes tels que des dommages au substrat, un environnement de travail médiocre, la pollution, un nettoyage partiel et des coûts de nettoyage élevés. Avec l'intensification de la pollution de l'environnement, des chercheurs de divers pays développent activement de nouvelles technologies de nettoyage économes en énergie, respectueuses de l'environnement et efficaces. Parce que le nettoyage au laser La technologie présente de nombreux avantages tels que de faibles dommages aux matériaux du substrat, une grande précision de nettoyage, zéro émission et aucune pollution, elle est progressivement appréciée et favorisée par les universités et l'industrie. Il ne fait aucun doute que l'application de la technologie de nettoyage au laser au nettoyage de la saleté sur les surfaces métalliques a de très larges perspectives.
Historique de développement et état actuel de la technologie de nettoyage laser
In the 1960s, the famous physicist Schawlow first proposed the concept of laser cleaning, and then applied the technology to the repair and maintenance of ancient books. Laser cleaning has a wide range of decontamination, from thick rust layers to fine particles on the surface of objects, including the cleaning of cultural relics, the removal of rubber dirt on the surface of tire molds, the removal of silicone oil contaminants on the surface of gold films, and the microelectronics industry. High precision cleaning. Laser cleaning technology really began in 2004, and began to invest a lot of manpower and material resources to strengthen the research on laser cleaning technology. In the past decade, with the development of advanced lasers, from inefficient and bulky carbon dioxide lasers to light and compact fiber lasers; from continuous output lasers to short pulse lasers with nanoseconds or even picoseconds and femtoseconds; from visible light output To the output of long-wave infrared light and short-wave ultraviolet light... lasers have developed by leaps and bounds in terms of energy output, wavelength range, or laser quality and energy conversion efficiency. The development of lasers has naturally promoted the rapid development of laser cleaning technology. Laser cleaning technology has achieved fruitful results in theory and application.
Le principe de la technologie de nettoyage laser
Le processus de nettoyage laser pulsé dépend des caractéristiques des impulsions lumineuses générées par le laser et est basé sur la réaction photophysique provoquée par l'interaction entre le faisceau lumineux à haute intensité, le laser à impulsion courte et la couche de contamination. Le principe physique peut être résumé comme suit (figure 1)
A) Le faisceau émis par le laser est absorbé par la couche de pollution sur la surface à traiter;
B) L'absorption de grandes énergies forme un plasma en expansion rapide (gaz instable hautement ionisé), qui génère des ondes de choc;
C) L'onde de choc transforme les polluants en fragments et est éliminée;
D) La largeur de l'impulsion lumineuse doit être suffisamment courte pour éviter l'accumulation de chaleur qui endommagerait la surface traitée;
(E) Les expériences montrent que lorsqu'il y a de l'oxyde sur la surface métallique, du plasma est généré sur la surface métallique.
Le plasma est généré uniquement lorsque la densité d'énergie est supérieure au seuil, ce qui dépend de la couche contaminée ou de la couche d'oxyde retirée. Cet effet de seuil est très important pour un nettoyage efficace tout en garantissant la sécurité du matériau du substrat. Il existe un deuxième seuil d'apparition du plasma. Si la densité d'énergie dépasse ce seuil, le matériau de base sera détruit. Afin de réaliser un nettoyage efficace sous réserve d'assurer la sécurité du matériau du substrat, les paramètres laser doivent être ajustés en fonction de la situation, de sorte que la densité d'énergie de l'impulsion lumineuse soit strictement comprise entre deux seuils.
Heure du Message: 28 juin 2020
